SiC高溫氧化爐
優點:

可處理最高常用溫度1650℃的SiC超高溫熱處理

除了In situ Cleaning,還擁有兼顧超高純度工藝與高產量需求的獨有技術

可處理高精度/高真空/高溫工藝的急速降溫

可以自有耐腐蝕/密封技術處理腐蝕性/毒性氣體的使用

從研發到6inch大批量生產的豐富產品

多年累積的采購以及量產運用上的豐富業績

應用:

化(O2、Pyrogenic)

氧氮化(N2O、NO)

退火(N2、Ar、H2、NH3)

POA(Post Oxidation Anneal)

產品詳情

Ailesic-2000

常用溫度:1200℃~1900℃

最高使用溫度:1950℃

溫度均一性:1900±5℃(±0.3% )

溫度再現性:1900±2℃(±0.1%)

晶體尺寸:Φ4~ Φ6 inch

處理片數:25片/批

降溫時間:85分鐘以內

*從1900 ℃到unloading溫度

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